TY  - JOUR
TI  - İridyum Katkılı Grafen Yüzey Üzerinde $NH_3$ Ayrışma ReaksiyonununMekanistik İncelemesi: Yoğunluk Fonksiyonel Teori Yaklaşımı
AB  - Amonyak ($NH_3$) ayrışma reaksiyonu, $CO_x$ emisyonu içermeyen $H_2$ üretmedeki potansiyel kullanımı nedeniyle önemlidir. NH3 ayrışmareaksiyonunda pek çok farklı katalizör kullanılmasına rağmen, metal gömülü grafen sistemler, deneysel olarak sentezlenebilir ve sadecebirkaç metal atomu kullanılmasından dolayı tek atom kristal yüzeylere göre çok daha ucuzdur. Bu çalışmada, İridyum (Ir) katkılı grafenyüzey üzerinde gerçekleşen $NH_3$ ayrışma reaksiyon mekanizması yoğunluk fonksiyonel teorisi (YFT) kullanılarak incelenmiştir. GrimeD2 düzeltmesi, adsorbe edilmiş yapılar ve yüzey arasındaki etkileşimlerle indüklenebilecek Van der Waals etkileşimleri içinkullanılmıştır. Öncelikle, Ir katkılı grafen yüzey üzerinde Bader yük analizi yapılmış ve elde edilen yük yoğunluğu bölgeleri elektronyoğunluk farklı ile gösterilmiştir. Ir katklı grafen yüzey üzerinde NHx (x= 0→3) türlerinin adsorpsiyonu ve onların parçalanmış NHx +yH (x+y=3) ikili bağlanma doğası araştırılmıştır. Son olarak, Ir katklı grafen yüzey üzerinde $NH_3$ ayrışması için reaksiyon mekanmasıönerilmiş ve her bir reaksiyon adımı için ihtiyaç duyulan enerji bariyerleri CINEB metodu yoluyla hesaplanmıştır. Elde edilen sonuçlar, Ir katkılı grafenin, $NH_3$ayrışma reaksiyonu için yüksek katalitik aktivite sergilediğini göstermiştir. Ayrıca NH → N+H adımı, genelreaksiyonun hız belirleyici adımı olduğu belirlenmiştir. Elde edilen bu bilgiler ışığında, $NH_3$ ayrışması için, Ir katklı grafen malzemelerüzerinde farklı stratejilerin ve teknolojilerin geliştirilmesinde kullanılabileceği sonucuna varılmıştır.
AU  - Karaman, Onur
DO  - 10.31590/ejosat.932871
PY  - 2021
JO  - Avrupa Bilim ve Teknoloji Dergisi
VL  - 0
IS  - 25
SN  - 2148-2683
SP  - 556
EP  - 561
DB  - TRDizin
UR  - http://search/yayin/detay/466564
ER  -